無錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——射頻濾波器拋光液 /半導(dǎo)體拋光液 /CMP拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液/射頻濾波器Slurry/射頻濾波器CMP化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry/射頻濾波器CMP集成電路拋光液/射頻濾波器拋光液拋光漿料Slurry

產(chǎn)品名稱：射頻濾波器拋光液/半導(dǎo)體拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液

產(chǎn)品簡介：射頻濾波器拋光液適用于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。

具有高的銅去除速率，碟型凹陷可調(diào)，低缺陷等特性。可應(yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留，以防銅表面腐蝕，降低表面缺陷。

我司產(chǎn)品優(yōu)點： 

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團(tuán)聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。

3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

可定制化：我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求)